伊勢崎/新伊勢崎駅の歴史

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現在の伊勢崎/新伊勢崎駅



■沿革-1

 昭和25年 3月    めっき業を開始、伊勢崎市の板垣製作所外注工場となり、発電ランプの生産に従事する。

昭和32年 6月     有限会社三共鍍金工業所を資本金50万円で設立法人化

昭和35年 6月     東京三洋電機株式会社(現パナソニック)が、群馬県大泉町進出に伴い、指定工場

                となり、テレビ・コ-ルドチェ-ン・冷凍機・冷暖房機器の表面処理を行う。

昭和40年 5月     トランジスタ-の表面処理を開始


昭和46年 1月        資本金を900万円に増資

昭和46年  12月              三共鍍金工業株式会社に組織変更、資本金を980万円に増資

昭和49年 7月        半導体ICリ-ドフレ-ムの表面処理を開始

昭和63年 6月     資本金を1,000万円に増資

平成  7年 1月        資本金を2,000万円に増資

平成  7年  12月                 東村に工業用地を取得、1年後の生産開始を予定

平成  8年 1月     資本金2,000万円に増資

平成  8年 2月      DOWA High Tech Philippines INC(DHP)工場めっきライン

                 立ち上げ

平成  8年 9月         東工場にMECO製めっき装置を2台設置(H-1/H-2号機)

平成  8年  11月      東工場生産開始

平成  9年 1月      SANYO Semiconductor Manufacturing Philippines           

                                                   Corporation(SSMP)工場めっきライン立ち上げ

三共技術者:2名派遣 6ケ月

立ち上げ~Closed Meeting


平成 10年   8月                  東工場にオランダメ-カ-社製めっき装置を1台設置(H-3号機)

平成 10年   9月                  H-3号機(オランダメ-カ-社製)一部生産開始

平成 10年 12月            H-3号機(オランダメ-カ-社製)24時間生産開始    

平成 11年   4月                  鉛フリ-ラボ実験装置構築

平成 11年   8月                  ISO 9001認証取得に向け始動

平成 12年 11月                  三共株式会社へ社名を変更する。

平成 12年 11月                  ISO 9001 LiA-AC 認証機関にて認証取得

平成 13年   3月                   ISO 14001認証に向け始動

平成 13年   4月      光山 紘 社長就任

平成 14年   3月                  鉛フリ-(ビスマス)めっき量産を開始

平成 14年 12月      東工場へ生産移管

平成 15年   4月                  鉛フリ-装置2号機を設置生産開始

 

鉛フリ-専用自動めっき装置の導入(PF-1)

PDPコントロ-ルHICリ-ドフレ-ムめっき開始

その1年後リピ-トめっき装置導入(増産対応:PF-2)

Smart HICリ-ドめっき生産開始


平成 15年 10月         ISO 9001 2000版認証を取得(EQA認証機関)

15年 11月          ISO 14001 認証を取得

平成 16年   4月                  香港に現地法人設立

平成 16年 12月                  中国広東省東莞市、東莞清渓三清半導体工場敷地内にめっき工場を建設

平成 17年   1月                  東村が市町村合併により伊勢崎市となる。

                    それに伴い、東村工場を伊勢崎工場に変更する。

平成 17年   1月      東莞清渓三清半導体めっき工場生産開始

平成 17年 11月                  ISO 9001、ISO 14001サ-ベランス更新      

平成 18年   3月                  高橋 尚哉 社長に就任

平成 19年   9月      資本金4,000万円に増資

平成 19年 11月            ISO 9001、ISO 14001サ-ベランス更新

平成 20年   8月                  ウォ-タ-ジェット装置新方式の導入

平成 20年   9月      ぐんまスタンダ-ド環境GS認定

平成 21年 12月                  銀めっきライン稼働、生産開始

平成 22年   4月                   めっき装置3号機の導入

平成 22年   5月                  光沢、半光沢錫、銀めっきラインの工程拡大

平成 23年   2月         手付けライン(光沢、半光沢錫)拡張

平成 23年   4月                   めっき装置3号機の改造による製品拡張(車載製品)

平成 23年   5月                   製品脱脂方法の確立(脱フロン対応)

平成 23年   8月      自動ウォ-タ-ジェット装置の増設(半導体フレ-ム用)

平成 24年   3月                  自動めっき装置(亜鉛)の導入

平成 24年   6月                   めっき装置(オ-トギルダ-方式)の導入

平成 24年   7月       手付け銀及び半光沢ラインの拡充

平成 25年   3月                   自動めっき装置(オランダメ-カ-社製)の導入


平成 26年   2月         自動めっき装置SG-1の導入(特殊部品)

平成 26年   6月                   全自動亜鉛めっき装置の導入

平成 26年   7月                   バランスウェイト量産開始

平成 27年 10月                   ISO9001、ISO14001更新

平成 27年 11月       環境GS認定制度7年目認定

平成 28年   4月                    車載製品生産開始(カチオン塗装)

平成 29年   5月                   ニッケルめっき工程:4m槽増設

平成 29年 11月                   ISO9001、ISO14001 ASR認証機関にて認証取得

平成 30年01月                   環境整備優良事業所(全鍍連)認定                 →沿革-2へ続く